महत्वपूर्ण धातुओं में से एक ज़िरकोनियम लक्ष्य

ज़िरकोनियम लक्ष्यवायुमंडलीय दबाव सिंटरिंग, गर्म दबाव सिंटरिंग (एचपी) और डिस्चार्ज प्लाज्मा सिंटरिंग (एसपीएस) द्वारा ZrB2 सिरेमिक तैयार करने के लिए कच्चे माल के रूप में उपयोग किया गया था। ZrB2 ब्लॉक को ZrB2 लक्ष्य में संसाधित किया गया था, और ZrB2 फिल्म मैग्नेट्रोन स्पटरिंग द्वारा एकल क्रिस्टल Si और UO2 कोर की सतह पर तैयार की गई थी। ZrB2 ब्लॉकों और फिल्मों की आकृति विज्ञान, चरण, संरचना, मापांक और कठोरता का विश्लेषण और स्कैनिंग इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोपी (SEM), ट्रांसमिशन इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोपी (TEM), एक्स-रे विवर्तन (XRD), एक्स-रे ऊर्जा स्पेक्ट्रोस्कोपी (EDS) द्वारा किया गया। , एक्स-रे फोटोइलेक्ट्रॉन स्पेक्ट्रोस्कोपी (एक्सपीएस) और नैनोइंडेंटेशन।

1.का सिंटरिंगज़िर्कोनियम लक्ष्यपाउडर को वायुमंडलीय दबाव सिंटरिंग विधि, गर्म दबाव सिंटरिंग विधि और डिस्चार्ज प्लाज्मा सिंटरिंग विधि द्वारा प्राप्त किया जा सकता है। उनमें से, लगभग 84.7% के सापेक्ष घनत्व के साथ ZrB2 घने शरीर का सापेक्ष घनत्व गर्म-दबाने वाले सिंटरिंग अनुपचारित ZrB2 पाउडर द्वारा प्राप्त किया जा सकता है, पापी शरीर के सापेक्ष घनत्व को सिंटरिंग एडिटिव्स के साथ पाउडर का उपयोग करके प्राप्त किया जा सकता है लगभग 91.5 है %, बॉल ग्राइंडिंग महीन पाउडर का उपयोग करके सिंटर बॉडी का सापेक्ष घनत्व लगभग 99.1% प्राप्त किया जा सकता है, और सिंटरिंग एडिटिव्स और बॉल मिलिंग द्वारा उपचारित महीन पाउडर का उपयोग करके लगभग पूरी तरह से सघन सिंटर बॉडी प्राप्त की जा सकती है। 76.7% के सापेक्ष घनत्व के साथ ZrB2 सिंटर बॉडी को डिस्चार्ज प्लाज्मा सिंटरिंग विधि द्वारा प्राप्त किया गया था, और वायुमंडलीय दबाव सिंटरिंग विधि द्वारा प्राप्त ZrB2 सिंटर बॉडी लगभग 71 थी। वायुमंडलीय दबाव सिंटरिंग विधि द्वारा प्राप्त बड़े पापयुक्त शरीर को मैग्नेट्रोन स्पटरिंग द्वारा ZrB2 पतली फिल्मों की तैयारी के लिए एक लक्ष्य सामग्री में संसाधित किया जा सकता है।

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