आधुनिक धातु ज़िरकोनियम लक्ष्य

पावर सर्किट ड्रिल बिट्स की सतह को सख्त करने के लिए फ़िल्टर्ड कैथोड आर्क वाष्पीकरण प्रौद्योगिकी द्वारा नैनोमल्टीलेयर पतली फिल्म तैयार करने का अनुप्रयोग। नैनो-मल्टीलेयर पतली फिल्म प्रणाली में, टाइटेनियम-एल्यूमीनियम (टीआईएएल) और क्रोमियम (सीआर) के विभिन्न अनुपात के साथ औरज़िर्कोनियम लक्ष्य(Zr) वाष्पीकरण गुहा के इलेक्ट्रोड के बीच अपेक्षाकृत क्रमबद्ध होते हैं, और Tetramethylsilane (TMS) को एक ही समय में पेश किया जाता है। Si(CH3)4) को कार्बन (C) और सिलिकॉन (Si) के डोप्ड अग्रदूत के रूप में तैयार किया जाता है, और फिल्म के यांत्रिक गुणों का मूल्यांकन नैनोहार्डनेस परीक्षक, घर्षण परीक्षण मशीन और स्क्रैच परीक्षण और माइक्रोस्ट्रक्चर और संरचना द्वारा किया जाता है। फिल्म परत इलेक्ट्रॉन माइक्रोडिटेक्टर हैं।

1.तीन ज़िरकोनियम नाइट्राइड संरचनाएं तब निर्मित हुईं जब ज़िरकोनियम नाइट्राइड फिल्म को मैग्नेट्रोन स्पटरिंग द्वारा नाइट्रोजन वातावरण में शुद्ध का उपयोग करके जमा किया गया थाज़िर्कोनियम लक्ष्य. इसलिए, हम आर्गन वायुमंडल के तहत रेडियोफ्रीक्वेंसी मैग्नेट्रोन स्पटरिंग द्वारा ज़िरकोनियम मिश्र धातु की सतह पर एक समान संरचना के साथ ज़िरकोनियम नाइट्राइड फिल्मों की एक श्रृंखला बनाने के लिए सीधे यौगिक ज़िरकोनियम नाइट्राइड लक्ष्य का उपयोग करते हैं। इस अध्ययन में, उनकी संरचनाओं को चिह्नित करने के लिए एक्स-रे डिफ्रेक्टोस्कोपी (एक्सआरडी) और ट्रांसमिशन इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोपी (टीईएम) का उपयोग किया गया था। सतह और क्रॉस-अनुभागीय आकृति विज्ञान का विश्लेषण करने के लिए स्कैनिंग इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोपी (एसईएम) और परमाणु बल माइक्रोस्कोपी (एएफएम) का उपयोग किया गया था। नैनोइंडेंटेशन के यांत्रिक और यांत्रिक गुणों का अध्ययन नैनोइंडेंटेशन द्वारा किया गया था।

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