उच्च स्तरीय धातु वैनेडियम पेंटोक्साइड परत में से एक

कोबाल्ट-वैनडियम अल्ट्रा-हाई डेंसिटी वर्टिकल मैग्नेटिक रिकॉर्डिंग मीडियम और तैयारी विधि, जिसमें एक चुंबकीय रिकॉर्डिंग माध्यम शामिल है। यह उच्च मैग्नेटोक्रिस्टलाइन एनिसोट्रॉपी, अच्छे ऊर्ध्वाधर चुंबकीय रिकॉर्डिंग विशेषताओं और उत्कृष्ट रासायनिक स्थिरता के साथ एक कोबाल्ट-वैनेडियम अल्ट्रा-हाई डेंसिटी वर्टिकल मैग्नेटिक रिकॉर्डिंग माध्यम प्रदान करता है, जो ऊर्ध्वाधर चुंबकीय रिकॉर्डिंग माध्यम द्वारा आवश्यक कम शोर और उच्च थर्मल स्थिरता की आवश्यकताओं को पूरा कर सकता है, और उच्च घनत्व वाले ऊर्ध्वाधर चुंबकीय रिकॉर्डिंग और इसकी तैयारी विधि के लिए उपयोग किया जा सकता है। यह एचसीपी संरचना की एक पॉलीक्रिस्टलाइन संरचना है, जिसमें 13% ~ 24% का वैनेडियम परमाणु प्रतिशत और 200 ~ 600nm की मोटाई है। साफ किए गए ग्लास सब्सट्रेट को स्पटरिंग चैम्बर में लोड किया गया है, कोबाल्ट लक्ष्य लोड किया गया है, औरवैनेडियम पेंटोक्साइड फ्लेककोबाल्ट लक्ष्य पर रखा गया है; स्पटरिंग चैंबर की पृष्ठभूमि वैक्यूम के लिए पंपिंग का वैक्यूम 5 × 10-4 पीए से बेहतर है; 2 0 0 ~ 300 डिग्री पर स्पटरिंग चैम्बर कोटिंग; एआर गैस पेश की जाती है, हवा का दबाव 0.6 ~ 0.7pa पर रखा जाता है, पूर्व-बोलने वाला कम से कम 10min है, लक्ष्य की सतह को साफ किया जाता है, और अंत में स्पटरिंग को 20 ~ 60min के लिए जमा किया जाता है।

1.पाउडर वैनेडियम पेंटोक्साइड,वैनेडियम पेंटोक्साइड फ्लेक450 ~ 600 डिग्री पर अमोनियम मेटावानाडेट या अमोनियम पॉलीवाडेटेट के कैल्सीनेशन और अपघटन द्वारा प्राप्त किया जाता है, और डीकंपोजिशन प्रक्रिया के दौरान अमोनिया और पानी के वाष्प की एक बड़ी मात्रा को अतिप्रवाहित किया जाता है, जो कि अलगाव के बाद एक छोटी मात्रा में एकत्र किया जाता है, जो कि पूरी तरह से बंद नहीं होता है। उत्पाद की गुणवत्ता आवश्यकताओं को पूरा नहीं करती है और एक दोषपूर्ण उत्पाद बन जाती है। आमतौर पर रोटरी भट्ठा, बाहरी हीटिंग रोटरी भट्ठा का उपयोग करने वाले उपकरणों को कैल्सीनिंग करें, क्योंकि भट्ठी की दीवार का तापमान थोड़ी मात्रा में सामग्री को पिघलाने और वैनेडियम की एक उच्च कठोरता बनने के लिए बहुत अधिक है, वैनेडियम परत की स्क्रीनिंग के बाद कैलक्लाइंड सामग्री का शेष हिस्सा माध्यमिक हो जाता है।

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