उच्च स्तरीय सामग्री वैनेडियम पेंटोक्साइड परत

ऑक्सीडेंट की अनुपस्थिति में, पत्थर के कोयले में वैनेडियम का लगभग 80% 85 डिग्री पर सल्फ्यूरिक एसिड समाधान के साथ लीच किया जा सकता है, तरल-ठोस द्रव्यमान अनुपात 1: 1 है, और अयस्क कण का आकार -60 मेष है । शुद्धपंचचुकानीसमाधान P204 और TBP के सल्फोनेटेड केरोसिन समाधान के निष्कर्षण द्वारा प्राप्त किया जा सकता है और सल्फ्यूरिक एसिड समाधान के रिवर्स एक्सट्रैक्शन, और फिर 98% से अधिक की शुद्धता के साथ परिष्कृत वैनेडियम पेंटोक्साइड समाधान अमोनिया वर्षा और पायरोलिसिस द्वारा प्राप्त किया जा सकता है।

1.कमरे के तापमान पर, साइक्लोहेक्सिन मुख्य रूप से इस उत्प्रेरक प्रणाली में एलिल ऑक्सीकरण से गुजरता है ताकि साइक्लोहेक्सेलनोन का निर्माण किया जा सके। विलायक के प्रकार का उत्प्रेरक गतिविधि और एलिल केटोन ऑक्सीकरण की चयनात्मकता पर बहुत प्रभाव पड़ता है, और एसीटोन इस प्रतिक्रिया के लिए एक उपयुक्त विलायक है। साइक्लोहेक्सीन के लिए एसीटोन के आयतन अनुपात की शर्तों के तहत 4 है, का द्रव्यमान अनुपातपंचचुकानीसाइक्लोहेक्सीन के लिए 1:40 है, साइक्लोहेक्सीन के लिए हाइड्रोजन पेरोक्साइड का दाढ़ अनुपात 3 है और प्रतिक्रिया तापमान 20 डिग्री है, 24 घंटे की प्रतिक्रिया के बाद साइक्लोहेक्सीन की रूपांतरण दर 60%से अधिक तक पहुंच सकती है, और साइक्लोहेक्सेनोन की चयनात्मकता 85 तक पहुंच सकती है। %। ऑक्सीडेटिव रोस्टिंग प्रक्रिया का वैनेडियम के निष्कर्षण पर एक महत्वपूर्ण प्रभाव था, जबकि पानी में विसर्जन प्रक्रिया का बहुत कम प्रभाव था। वैनेडियम को ऑक्सीडेटिव रोस्टिंग द्वारा घुलनशील सोडियम वैनडेट और अघुलनशील कैल्शियम वैनडेट में बदल दिया जाता है। पानी के विसर्जन के दौरान, सोडियम वैनडेट पानी में घुल जाता है; कैल्शियम वनाडेट घुलनशील सोडियम वनाडेट में परिवर्तित करने के लिए सोडियम फॉस्फेट या सोडियम सिलिकेट के साथ प्रतिक्रिया करता है, जो एक साथ लीचिंग समाधान में अशुद्धियों सिलिकॉन और फॉस्फोरस को हटा सकता है।

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